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*Diese Seite ist leider nur in Englisch verfügbar.*Wafer contamination standards consist of particles deposited on a wafer (sizes from 100 mm to 450 mm) with the industry's best particle size and count control. These certified standards for wafer inspection tools are totally...

*Diese Seite ist leider nur in Englisch verfügbar.*PRE Challenge Wafers are an affordable solution for Particle Removal Efficiency (PRE) testing resulting in reliable cleaning system validation.

Surface defect inspection for masks ensures high-quality lithography by detecting and addressing imperfections. Advanced inspection systems improve yield and efficiency in semiconductor manufacturing.

*Diese Seite ist leider nur in Englisch verfügbar.*This manually-loaded particle deposition system deposits PSL and SiO2 spheres as small as 10 nm. Calibrate and qualify your defect inspection tools with ease, confidence, and efficiency by producing high volumes of high...

*Diese Seite ist leider nur in Englisch verfügbar.*Filtration down to 1 nm and below

*Diese Seite ist leider nur in Englisch verfügbar.*PRE Challenge Photomasks offer a cost-effective solution for Particle Removal Efficiency (PRE) testing, ensuring dependable validation of cleaning systems.

Wählen Sie Ihre Konfiguration des globalen Standards für die Aerosolgrößenmessung. Seit mehr als 30 Jahren haben die TSI Scanning Mobility Particle Sizer (SMPS™)-Spektrometer dazu beigetragen, neue Erkenntnisse in der Aerosolforschung zu gewinnen und andere Geräte zu...