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MSP为一家全球半导体巨头优化了钴薄膜沉积工艺，解决了CCTBA汽化过程中低蒸汽压和热稳定性问题导致的堵塞和停机。

流速0.1 CFM（2.83LPM），1 CFM（28.3 LPM）/通道粒径选项0.2-25μm

了解一家日本领先半导体供应商如何通过TSI革命性的水基凝聚核粒子计数器3789（WCPC）实现前所未有的洁净度。

保持高纯度气体对于避免缺陷和确保半导体质量至关重要。最佳实践包括实时监测粒子粒径低至2nm和严格的合规性。

流速1 CFM (28.3 LPM) 精确度± 5% / 粒径范围 0.5 to 25 μm / 内置泵

流速1.0 CFM (28.3 LPM) / 粒径范围 0.100 to 10.0 µm

MSP's Turbo II™ Vaporizer 2855PE is designed for high-precision microelectronic applications that require mid to high vapor flow rates. Based off of the field proven, highly reliable, and low-maintenance MSP Turbo™ Vaporizers, the new 2855PE delivers twice the vapor output in...