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引领前沿:

确保零部件清洁度以提高半导体制造品质

在日本半导体工业的一线,一家领先的流体控制和蒸发系统供应商决心将其产品质量提升到一个新的水平。在这家享有盛誉的公司,生产工程师正着手确保零部件的清洁度,特别注重在制造过程中的颗粒零释放。

在该公司选择采用TSI的解决方案之前,他们在颗粒脱落采样方面已经达到了极限。使用现有方法,只能检测到100 nm 以上的颗粒,与监测 10 nm 以下颗粒的要求相距甚远,而这对最新的半导体制造工艺至关重要。

TSI's WCPC 3789 allows to measure particles below 10 nm to meet the stringent cleanliness requirements in semiconductor manufacturing.致力于为客户提供无缺陷的产品

该日本公司为自己设定了雄心勃勃的目标。他们正在寻找一种解决方案,使他们能够测量 10 nm 以下的颗粒,以确保满足半导体制造所需的严格清洁度要求。

TSI的解决方案具有开创性:水基 凝聚核粒子计数器 3789 (WCPC)。这种最先进的粒子计数器成为该公司质量控制战略的基石。

使用 TSI 的 WCPC 验证颗粒脱落

2023年,该公司做出了引进TSI 3789 WCPC的战略决策。在TSI和当地合作伙伴的大力支持下,该公司将这种先进的粒子计数器无缝集成到其生产线中。

通过使用 3789 WCPC,该公司提升了各种半导体产品的质量,包括气体和液体质量流量控制器以及液体蒸发系统。3789用于对产品颗粒物脱落的验证,保证出厂产品满足高端客户的要求。

确保取得优势

对TSI 3789 WCPC 的投入是该公司的一个重要里程碑。这使他们能够严格控制颗粒污染,并确保他们的产品符合半导体制造的严格要求。

通过利用 3789 WCPC 的精度和灵敏度,他们在行业中获得了竞争优势。该公司现在可以保证卓越的产品质量,甚至超过了IDM/Foundry对工艺的严格要求。

与TSI合作的决定是基于对TSI在颗粒测量技术方面良好声誉的信心以及之前密切的研发合作关系。该公司认可TSI对创新和可靠性的承诺,这使TSI成为其提高质量控制标准的首选伙伴。

超越配件清洁度目标

通过与TSI合作并采用3789 WCPC,这家日本公司达到并超过了确保半导体元件无颗粒释放的制造工艺目标。在TSI解决方案的支持下,他们将继续引领行业潮流,为他们的客户提供无与伦比的高清洁度和性能的产品。


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