晶圆和掩模片污染标准

MSP作为TSI旗下部门,专注于为半导体行业提供高品质污染标准。 我们的服务旨在提升您的半导体行业制造业检测系统性能,减少检测与计量工具间的差异,并最使得设备良率实现最大化大。

我们为晶圆和光罩检测工具提供认证的污染标准,确保粒子粒径和数量的恒定与可重复控制。 我们的污染标准涉及将特定粒径、成分和数量的粒子沉积到您选择的基底上,包括晶圆、6英寸光罩及其它基底。 我们能够在100mm至300mm的裸片、薄膜及图案化晶圆上沉积粒子,有效支持您的开发、验证、校准和监测需求。

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SPx Calibration Standards

MSP's SPx Calibration Standards are precision engineered tools for the calibration...

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Dev-Dep Development Wafer Contamination Standards

Wafer contamination standards consist of particles deposited on a wafer (sizes from 100 mm to 450...

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Dev-Dep Development Reticle Contamination Standards

Reticle/photomask contamination standards consist of particles deposited on 6 inch reticles with...

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